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エレコートEU-XCシリーズ 部分めっきやエッチング用マスキングにネガ型フォトレジスト電着プロセス

めっき・エッチング用マスキングレジスト現像型

特徴

  • 3次元のパターン形成が可能です。
  • 精密な膜厚(ミクロン単位)の制御が可能です。
  • エッジカバー性に優れ、低タックです。
  • 耐めっき性、耐薬品性に優れ、高速シアン化銀めっき液、金めっき液、硫酸銅めっき液等のめっき用レジストとして使用が可能です。
  • 塩化鉄液に対する耐酸性、苛性ソーダに対する耐アルカリ性もあり、エッチングレジストとしても使用が可能です。

電着フォト工程

工程 処理条件 使用薬品
洗浄・活性化 薬液による洗浄、活性化 各種洗浄剤、活性化剤
レジスト電着 30~60sec エレコートEU-XCシリーズ
乾 燥 60~80℃、30~60sec
露 光 100~150mj/cm²(i線)
現像 40~50℃、30~60sec 専用現像液(酸性)
めっきあるいはエッチング
レジスト剥離 40~50℃、30~60sec 専用剥離液(酸性)

表面でのレジスト形成が簡単です

電着フォトレジストはフィルムやディップ方式や塗布方式では困難な凹凸面にもレジスト形成が可能です。

高解像度を実現

L/S=8/8 銅エッチング、L/S=4/4 金エッチング

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